6月27日-29日，2018国际新型显示技术展在上海新国际博览中心隆重举行。展会体现了最先进的显示技术和最前沿的显示行业发展趋势。

本次展会诚志永华除展出了公司全系列液晶材料产品外，重点携最新技术成果——液晶残像可靠性解决方案、高穿透率液晶解决方案亮相，为现场观众展示液晶材料技术新突破。

永华全系列液晶产品

01液晶残像解决方案

残像（Image sticking）是显示行业长久以来面对的主要问题之一，从液晶层面改善残像长期以来参照的最主要的标准是电压保持率（VHR）。但是VHR与PI高度相关，且其关注点在离子的产生上，有其局限性。有序度作为液晶最基础的参数，首次应用于表征预测液晶残像。在优化后的测试方法中，有序度的测试稳定性及准确性极高，较高有序度混晶对比低有序度混晶时，残像表现更优的概率大于90%。

02高穿液晶解决方案

EB+液晶采用特殊的分子设计，在此基础上，混晶设计充分发挥该分子设计的特性达到高穿透，高响应速度，高可靠性的特点。其穿透度可与负性液晶相媲美，响应速度却远高于负性液晶。

作为行业内重要的显示材料生产商，诚志永华吸引了包括行业专家、客户、业内同行、咨讯机构的行业人士驻足参观。

中国光学光电子行业协会专家学者参观现场

客户来访参观客户来访参观

业内同行交流

诚永永华始终秉承着自主创新的理念，积极进行产品与技术创新，通过为客户提供专业的产品和服务，不断提升品牌影响力，为实现管理一流、产品一流、人文一流的显示材料企业不断迈进！